Hiện nay có rất nhiều phương pháp khác nhau để chế tạo các vật liệu ở dạng màng mỏng với chiều dày từ vài nanomet đến vài micromet, thậm chí là có thể chế tạo được màng mỏng với chiều dày chỉ vài lớp nguyên tử. Các phương pháp được sử dụng phổ biến hiện nay là: – Lắng đọng pha hơi hóa học (Chemical Vapour Deposition – CVD) – Lắng đọng pha hơi vật lý (Physical Vapour Deposition – PVD) – Các phương pháp sol-gel, điện hóa, quay phủ ly tâm v.v Căn cứ vào điều kiện thực tế của Việt Nam, chúng tôi chọn ba phương pháp, đó là: – Lắng đọng pha hơi vật lý (sử dụng hai phương pháp bốc bay nhiệt và bốc bay chùm tia điện tử); – Phương pháp quay phủ ly tâm. – Phương pháp phún xạ (sputtering)