Đề tài Nghiên cứu chế tạo màng ITO bằng phương pháp phún xạ Magnetron

  • Người chia sẻ : vtlong
  • Số trang : 29 trang
  • Lượt xem : 10
  • Lượt tải : 500
  • Tất cả luận văn được sưu tầm từ nhiều nguồn, chúng tôi không chịu trách nhiệm bản quyền nếu bạn sử dụng vào mục đích thương mại

NHẬP MÃ XÁC NHẬN ĐỂ TẢI LUẬN VĂN NÀY

Nếu bạn thấy thông báo hết nhiệm vụ vui lòng tải lại trang

Bạn đang xem trước 20 trang tài liệu Đề tài Nghiên cứu chế tạo màng ITO bằng phương pháp phún xạ Magnetron, để xem tài liệu hoàn chỉnh bạn click vào nút DOWNLOAD LUẬN VĂN ở trên

Nhiệt độ đế thấp, có thể xuống đến nhiệt độ phòng
Độ bám dính tốt của màng trên đế
Vận tốc phủ cao, có thể đạt 12 µm/phút
Dễ dàng điều khiển
Các hợp kim và hợp chất của các vật liệu với áp
suất hơi rất khác nhau có thể dễ dàng phún xạ
Phương pháp có chi phí không cao
Có khả năng phủ màng trên diện tích rộng