Tiểu luận Nghiên cứu chế tạo màng mỏng Zno loại N

  • Người chia sẻ :
  • Số trang : 10 trang
  • Lượt xem : 10
  • Lượt tải : 500
  • Tất cả luận văn được sưu tầm từ nhiều nguồn, chúng tôi không chịu trách nhiệm bản quyền nếu bạn sử dụng vào mục đích thương mại

NHẬP MÃ XÁC NHẬN ĐỂ TẢI LUẬN VĂN NÀY

Nếu bạn thấy thông báo hết nhiệm vụ vui lòng tải lại trang

Bạn đang xem trước 20 trang tài liệu Tiểu luận Nghiên cứu chế tạo màng mỏng Zno loại N, để xem tài liệu hoàn chỉnh bạn click vào nút DOWNLOAD LUẬN VĂN ở trên

Ngày nay, màng mỏng oxyt dẫn điện trong suốt (TCO) có nhiều ứng dụng nhƣ kỹ thuật màn hình phẳng , kính kiến trúc , năng lƣợng mặt trời Một trong những vật liệu làm màng mỏng thông dụng hiện nay là ZnO pha tạp với các đặc tính nhƣ thân thiện môi truờng ,nguồn dồi dào , độ trong suốt vùng khả kiến và độ dẫn điện cao . Có nhiều tạp chất có thể pha vào ZnO nhƣ Al,Ga,In,Sc.bằng nhiều phƣơng pháp. Nhiều công trình nghiên cứu cho thấy màng ZnO-Al phún xạ bằng phƣơng pháp magnetron đạt đƣợc tính chất cao về độ dẫn điện cũng nhƣ độ truyền qua, tuy nhiên do cách bố trí bia-đế (để tránh sự bắn phá của ion âm) nên vận tốc phún xạ thấp, tiêu tốn vật liệu nhiều, cũng nhƣ không có độ bền nhiệt khi xử lý nhiệt độ cao trong môi trƣờng không khí , do đó màng ZnO-Ga đang đƣợc nghiên cứu để khắc phục các nhƣợc điểm trên.Trong bài này xin giới thiệu màng mỏng ZnO pha Ga bằng phƣơng pháp phún xạ magnetron.